亚游平台官网

磁控濺射鍍膜儀
  • 往復樣品臺單靶磁控鍍膜儀 桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀雙電源 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導...
  • 分體式單靶磁控鍍膜儀 本設備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀 雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導...
  • 磁控濺射/真空蒸發復合型鍍膜設... 磁控濺射/真空蒸發復合型鍍膜設備將磁控濺射技術和真空蒸發技術結合在同一鍍膜設備里,既利用磁控濺射陰極輝光放電將靶材原子濺...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻... 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 三靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(雙膜厚儀) 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流+射頻... 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 雙靶磁控濺射鍍膜儀(射頻)是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1...
  • 雙靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 雙靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英...
  • 單靶磁控濺射鍍膜儀(射頻) 磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3...
  • 單靶磁控濺射鍍膜儀(直流) 磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3...
  • 小型單靶磁控濺射鍍膜儀 小型單靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可...
  • 上一頁12下一頁
    上一頁下一頁