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產品詳情
  • 產品名稱:分體式單靶磁控鍍膜儀

  • 產品型號:
  • 產品廠商:亚游平台官网科儀
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簡單介紹:
本設備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。 本套配置采用石英真空腔體,鍍膜過程全向可視,便于實驗的觀察記錄,腔體設計開啟方便,易于清理,十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。 設備的真空獲得系統采用兩級真空泵組,前級泵為大抽速機械泵,有效縮從常壓至低真空的時間,主泵為渦輪分子泵,抽速高,真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統干凈快速。
詳情介紹:

樣品臺

尺寸

150mm

加熱溫度

≤500℃

 

旋轉速度

1-20r/min

控溫精度

±1℃

磁控濺射頭

數量

2英寸 x1 

冷卻方式

水冷

真空腔體

腔體尺寸

φ270mm X 200mm

觀察窗口

全向可視

 

腔體材料

高純石英

開啟方式

頂蓋拆卸式

真空系統

機械泵

CY240

抽氣接口

KF16

 

抽氣速率

1.1L/s

 

 

 

分子泵

CY600

抽氣接口

KF40

 

抽氣速率

600L/s

排氣接口

KF40

 

真空測量

電阻規+電離規

 

 

 

極限真空

10-5Pa數量級

供電電源

AC;220V 50/60Hz

電源配置

直流電源數量

1臺

輸出功率

500W

 

輸出電壓

≤600V

響應時間

<5ms

 

射頻電源數量

1臺

輸出功率

≤1000W

 

功率穩定度

≤5W

 

 

膜厚監控系統

膜厚儀測量分辨率

±0.03Hz

測量精度

±0.5%

 

測量上限

50000

測量速度

100~1000ms

水冷系統

水箱容積

9L

流量

10L/min

其他

供電電壓

AC220V,50Hz

整機功率

3kw(主機+真空泵)