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產品詳情
  • 產品名稱:往復樣品臺單靶磁控鍍膜儀

  • 產品型號:
  • 產品廠商:亚游平台官网科儀
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簡單介紹:
桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為150W直流電源,可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護性氣體,若客戶需要通入混合氣體,可以聯系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。儀器標配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。
詳情介紹:


桌面型單靶磁控鍍膜儀適用范圍:

該設備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比,經過小型化設計,高度集成,體積小巧,可以放置于桌面上使用,是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。 

單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數:


往復樣品臺

尺寸

50*100mm

往復速度

0~50mm/s

磁控靶槍

靶材平面

圓形平面靶

濺射真空

10Pa0.2Pa

靶材直徑

英寸

靶材厚度

建議25mm

靶頭溫度

≦65℃

真空腔體

腔體尺寸

約為Φ180mm × H 215mm

腔體材料

高純石英

觀察窗口

全向透明

開啟方式

頂蓋拆卸式

電源

直流電源功率

*大150W

數量

1

分子泵系統

前級泵

旋片泵

VRD-4

 

抽速

1.1L/S

 

極限真空

5*10-1Pa

分子泵

分子泵抽速

600L/S

 

額定轉速

24000rpm

 

極限真空

5*10-5Pa

 

振動值

≦0.1um

 

啟動時間

≦4.5min

 

停機時間

<7min

 

冷卻方式

水冷+風冷

水冷機

冷卻水溫度

≦37℃

冷卻水流速

10L/min

供電電壓

AC220V 50Hz