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    • 本產品是一款小型的1100℃布里奇曼晶體生長爐,配有2英寸的石英管,精密提拉機。布里奇曼晶體生長爐用...
    • 1700℃管式爐采用高質量硅鉬棒作為加熱元件,加熱溫度可高達1700℃,爐管管徑為50mm,采用高純...
    • 往復樣品臺單靶磁控鍍...
      桌面型單靶磁控鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有小型化、標準化的特點。磁控靶有1英寸、2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為150W直流電源,可用于金屬濺射鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護性氣體,若客戶需要通入混合氣體,可以聯系工作人員自行配置高精度質量流量計以滿足實驗需要。儀器標配先進的渦輪分子泵組,極限真空可達1.0E-5Pa,同時另有其他類型的分子泵可供選購。
      三靶磁控濺射鍍膜儀雙...
      三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備,具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇,客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購;所配電源為500W直流電源和500W射頻電源,直流電源可用于金屬薄膜的制備,射頻電源可用于非金屬膜的制備,三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要,可以定制其他射頻電源和脈沖電源,各型電源均有300W到1000W多種規格可選。
      帶偏壓雙靶磁控鍍膜儀
      雙靶磁控濺射鍍膜儀為我公司研發的配有兩個靶位的小型實驗室用鍍膜儀,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等。 磁控濺射相較于普通的等離子濺射擁有能量高速度快的優點,鍍膜速率高,樣品溫升低,是典型的高速低溫濺射。磁控靶配有水冷夾層,水冷機能夠有效的帶走熱量,避免熱量在靶面聚集,使磁控鍍膜能長時間穩定工作。 除此之外本設備還配有偏壓電源,能夠在靶材和樣品臺間添加偏壓電場,增強離子的能量,提高成膜質量和薄膜的附著力。整機均采用觸控屏控制,內置一鍵式鍍膜程序,操作簡單易上手,是一款實驗室制備薄膜的理想設備。
      分體式單靶磁控鍍膜儀
      本設備為單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用,也可實驗室SEM樣品制備。 本套配置采用石英真空腔體,鍍膜過程全向可視,便于實驗的觀察記錄,腔體設計開啟方便,易于清理,十分適合實驗室使用。同時設備配有旋轉加熱樣品臺,可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質量。整機采用模塊化設計,操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。 設備的真空獲得系統采用兩級真空泵組,前級泵為大抽速機械泵,有效縮從常壓至低真空的時間,主泵為渦輪分子泵,抽速高,真空獲取速度更快。 整體真空獲得系統干凈快速。
    • 多源高真空蒸發鍍膜儀
      本設備為多源高真空蒸發鍍膜儀,設備采用前開門式真空腔體設計,腔體空間大,可拓展性強,能夠滿足多樣式大尺寸樣品的蒸發鍍膜。腔體內配有上置樣品臺,可根據用戶樣品樣式選取夾持或卡位式樣品安裝部件。樣品臺可旋轉、加熱及升降,所有操作均通過觸控屏集成控制。設備的真空泵組為兩級式真空系統,由雙極旋片真空泵和渦輪分子泵組成,可為真空鍍膜試驗提供清潔無油的高真空的環境;真空系統內含有完善的氣動閥系統,用戶可通過觸控屏進行一鍵式操作實現抽取真空、不停機取放樣、完全停機等操作。
      小型溫控蒸發鍍膜儀
      本小型程序控溫蒸發鍍膜儀可對程序進行設定,并精 確控制溫度在200oC-1500oC的范圍內進行變化,在對樣品進行蒸發鍍膜的過程中,樣品臺可進行旋轉,以獲得更均勻的薄膜。本型號的小型程序控溫蒸發鍍膜儀應用范圍廣,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜,因此被廣泛用于電極的制備和有機物發光LED的制備。儀器體積小巧,可有效節約實驗室空間;操作簡單,對不同材料的適應性強,因此被廣泛應用于各大高校和科研院所的實驗室當中。
      小型蒸發鍍膜儀
      本儀器是一款小型蒸發鍍膜儀,蒸發溫度從200℃到1700℃,采用鎢絲籃作為蒸發源,蒸發源外套高純氧化鋁坩堝。樣品臺距離蒸發源距離可調。小型蒸發鍍膜儀擁有高精度的溫度控制系統,采用循環加熱方式,能夠穩定蒸發金屬及部分有機物。
      小型高真空熱蒸發鍍膜...
      本儀器是一款高真空緊湊型熱蒸發鍍膜儀,蒸發溫度從200℃到1700℃,采用鎢絲籃作為蒸發源,蒸發源外套高純氧化鋁坩堝。
    • 多弧離子鍍膜儀
      本設備為多弧離子鍍膜設備。多弧離子鍍是利用氣體放電或被蒸發物質部分離化,在氣體離子或被蒸發物質粒子轟擊作用的同時,將蒸發物或反應物沉積在基片上。本設備配有兩個多弧靶,分置于腔體兩側。配合行星式樣品臺可有效的提高鍍膜效率,改善成效果 該鍍膜儀還采用一體化設計,腔體和電控部分左右分置,實現了水電分離,有力的保證了用戶的安全。
      三靶等離子濺射鍍膜儀
      本型號小型等離子濺射儀,采用二極濺射方式,廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗。采用低溫等離子體濺射工藝,鍍膜過程中樣品表面常溫狀態,沒有熱損傷。本型號儀器還配有旋轉樣品臺,樣品放在樣品臺上即可對準不同的濺射靶,實現多層鍍膜的切換。同時該型號等離子濺射儀配備三組水冷型濺射靶,能夠有效控制發熱,維持長時間的濺射作業。該小型等離子濺射儀使用PLC控制系統,全部觸摸屏操作,便于學習使用。設備體積小巧造型美觀,是實驗室鍍膜試驗的*佳選擇。
      旋轉加熱等離子濺射鍍...
      旋轉加熱等離子濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比等離子濺射鍍膜設備,具有結構緊湊,簡單易用,集成度高,設計感強的優勢。等離子濺射靶為2英寸的標準尺寸,客戶可以根據需要選擇1~3個靶的不同配置,以滿足鍍單層膜或者多種材料多層膜的不同實驗需求。
      三靶等離子濺射鍍膜儀
      三靶等離子濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比等離子濺射鍍膜設備,等離子濺射靶為2英寸的標準尺寸,客戶可以根據需要選擇1~3個靶的不同配置,以滿足鍍單層膜或者多種材料多層膜的不同實驗需求。儀器所配電源為150W直流高壓電源,可用于金屬濺射鍍膜,尤其適合金銀銅等貴金屬的鍍膜。鍍膜儀配有通氣接口,可以通入保護性氣體。儀器采用觸摸屏控制,簡單直觀易于上手,能夠一鍵實現鍍膜啟停、切換靶位、擋板旋轉等操作,十分適合實驗室選購。
    • 等離子濺射和蒸發二合...
      等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。儀器元件高度集成化,在同一個腔體內即實現了兩種鍍膜功能;本鍍膜儀采用304不銹鋼腔體作真空腔體,鍍膜過程完全可見。儀器標配雙極旋片真空泵,能夠快速達到1.0E-3Pa的真空度,極限真空度1.0E-5Pa,可滿足大多數蒸發鍍膜實驗和二極濺射實驗所需的真空環境。本儀器體積小,節省空間,能夠置于試驗臺上使用,一機多用,性價比突出,非常適合各大高校及研究機構選用。
      等離子濺射蒸發二合一...
      CY-EVS180G-LV二合一鍍膜儀,可用于電子產品、玻璃、陶瓷樣品、金屬等樣品的鍍膜。尤其適合實驗室SEM(掃描電鏡)的樣品制備。 設備主要由石英真空室、等離子濺射靶,蒸發鍍膜裝置,放置樣品的樣品臺,真空泵機組、真空測量規管,進氣系統和控制系統組成。 設備主機采用觸摸顯示屏操作,溫控表檢測。其數字化參數界面和自動化操作方式為用戶提供了優良的研發平臺。真空室采用上中下結構,樣品臺與靶的距離靈活可調。 設備真空獲得系統采用上等雙極旋片泵。 具有體積小,噪音小,無油污污染等優點。 真空腔體采用石英加工而成,呈現圓柱結構,外形美觀,大方。主要密封法蘭采用 KF 系列高真空密封法蘭。真空腔體各接口均采用橡膠密封圈密封,真空性能優良,能有效鍍膜質量。
      小型二合一鍍膜儀
      等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
      小型高真空二合一鍍膜...
      等離子濺射和蒸發二合一鍍膜儀配備了直流濺射靶和熱蒸發組件,不但可以用于等離子濺射方式鍍金屬膜,也可以用蒸發的方式得到碳或者其他金屬單質的薄膜。
    • 全自動超聲波氣氛加熱...
      CY-SPC-HUA6勻膠機是一種小型、靈活的旋轉勻膠設備,可通過超聲波噴頭把膠液噴灑在基片上,進而通過高速旋轉使得膠液均勻涂覆在基片上。也可以單獨進行旋涂操作。腔體內布有加熱元件,可在勻膠后進行烤膠操作。產品帶有兩路浮子流量計控制的氣路,可將惰性氣體通入腔體內,在勻膠時保護膠液不收空氣中的氣體影響。 此款勻膠機適用于半導體硅片,載玻片,晶片,基片,ITO導電玻璃等工藝、制版的表面涂覆。可勻膠*大圓晶尺寸為6英寸,轉速可達10000rpm,加速度可達5000rpm;具有轉速穩定,啟動迅速,操作方便等優點,并能保證勻膠厚度的一致性和均勻性,是一款性能優良的產品。
      凈化型勻膠機
      凈化型勻膠機廣泛用于半導體硅片的勻膠鍍膜等,例如對大型晶圓、芯片、晶片等進行工藝制版時,可用此設備進行各種膠體的表面涂覆或光刻工藝勻膠; 是集成電路及半導體器件生產過程中涂覆勻膠的專用設備?。該設備中涂膠部分含有兩個工位的勻膠臺,可分別獨立工作,也可兩臺同時工作。
      防腐型聚四氟腔體勻膠...
      本型號勻膠機經過小型化設計,整體采用鋁合金結構,防腐型聚四氟腔體,外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機,*高轉速能達到8000轉/秒;控制依靠按鍵和高亮液晶屏,除直接勻膠外還能預存勻膠曲線進行程控勻膠。本儀器在極大的減小了體積的前提下有效的保障了儀器性能和功能,十分適合實驗室選購。
      鋁合金陽極氧化處理腔...
      本型號勻膠機經過小型化設計,整體采用鋁合金結構,鋁合金陽極氧化處理腔體,外觀美觀堅固。儀器采用先進的精密電機,*高轉速能達到8000轉/秒;控制依靠按鍵和高亮液晶屏,除直接勻膠外還能預存勻膠曲線進行程控勻膠。本儀器在極大的減小了體積的前提下有效的保障了儀器性能和功能,十分適合實驗室選購。
    • 高壓靜電紡絲機
      本公司生產的高壓靜電紡絲機是一種基于電紡絲技術利用聚合物溶液或熔體在強電場中的噴射作用制備超細纖維的裝置。高壓靜電紡絲機主要由四部分組成:液體供給裝置、噴絲頭、高壓電源及收集裝置。
      超聲波熱解噴涂機
      超聲波熱解噴涂機是由我公司自主研發的一款超聲噴霧熱解設備,超聲波熱解噴涂機配有40KHz 130W的超聲波霧化器、PID控溫的加熱襯底基板、高精度蠕動泵以及精密程控的步進電機移動機構。
      納米纖維雙紡紗靜電紡...
      納米纖維靜電紡絲機是一種臺式靜電紡絲系統,具有雙重紡紗和學習功能,被稱為生產納米級纖維的有效,方便的方法之一。這些納米纖維具有幾個顯著的特性,例如體積比大的表面積,高孔隙率,表面功能的靈活性和優異的機械性能。納米纖維由于其突出的性質而被廣泛應用于過濾和多功能膜,醫療用途和軍事系統中。納米纖維靜電紡絲機是一種用于生產直徑為20-1000nm的超細纖維的系統。與兩個雙通道注射泵集成在一起,可有效生產*高質量的納米纖維
      臺式靜電紡絲和電噴霧...
      臺式靜電紡絲和電噴霧裝置是一款高壓靜電紡絲機,專門用于制作納米線或是在基底上進行涂層。儀器中的注射泵可連續不斷地向噴頭輸送流體,且供液速度可調,滿足不同紡絲溶液的需求,同時高壓電源可為電紡絲提供長時間穩定的電場,其電場強度為0-30kV。臺式靜電紡絲和電噴霧裝置的噴頭和收集裝置都封閉在一通風柜中,同時通風柜內部還安裝有加熱源,可使內部環境的zui高溫度達到60℃。